國內某頭部半導體制造企業，在其核心生產工藝——真空鍍膜（PECVD）制程中，需在真空腔體內通入等離子化學氣體，于高溫低壓條件下使等離子體附著于玻璃基板表面，形成半導體膜層。為保證腔體清潔度和鍍膜質量，真空腔體在制程后需定期使用特殊藥液進行內壁清潔。

由于清潔過程發生在密閉真空環境中，傳統方式無法對其進程進行有效監控與精準判斷。該企業在CVD腔體清潔環節面臨以下挑戰：

●清潔效果與成本難以平衡：清潔時間不足會導致腔體殘留膜層積累，可能脫落形成particle造成腔體污染，造成產品缺陷甚至批量報廢；清潔時間過長則會造成藥液和時間嚴重浪費。

●人工經驗依賴度高：清潔終點完全依賴人員目視觀察或經驗評估，存在主觀性強、無法實時量化、變異不易管控等問題，管理難度大且效率低下。

●設備維護成本高昂：過度清潔也會加速CVD設備內部關鍵部件的腐蝕與老化，增加備件更換頻率和維護成本。

●質量風險難以管控：人工監控的滯后性和不準確性，潛藏因清潔不徹底而導致顆粒污染的風險，影響產品品質穩定性。

針對上述痛點，格創東智為該企業部署了一套CVD成膜設備腔體清潔監控檢測系統，融合“光譜數據采集+AI建模分析+自動化控制+安全預警”技術，實時監控清潔過程、精準判斷清潔終點、動態調節藥液流量，在保障產品良率的同時，顯著降低藥液用量和清潔時間。

●光譜數據采集：通過高精度光譜采集裝置，實時監測清潔過程中腔體內的等離子體發射光譜；

●AI建模分析：基于采集到的光譜數據建立清潔狀態識別模型，通過機器學習算法動態識別清潔進程與終點；

●自動化控制：與CVD主設備的生產控制系統（MES）及氣體供應系統進行深度集成，通過RCM+RPA技術實現自動化聯動，可在判定清潔終點后數秒內自動停止清潔程序；

●安全預警機制：集成泄漏監測功能，實時監控腔體真空度，對異常泄漏進行預警，保障生產安全。

該系統的成功應用為企業帶來了顯著的綜合效益：

經濟效益顯著優化

●耗材成本大幅降低：通過精準判定清潔終點，避免過度消耗，年節約藥液成本高達千萬元；

●人力成本有效精簡：實現清潔過程自動化點檢，節省多名專職人員，年節約人力成本約40萬元；

●設備維護費用下降：清潔時間減少降低了設備腐蝕速率，關鍵部件使用壽命得以延長，年節省維護費用約百萬元。

質量與效率雙重提升

●產品良率穩步提高：避免因清潔不足或過度清潔導致的產品缺陷，顯著提升品質一致性；

●產能利用率提升：每個清潔Cycle節省的時間轉化為更快的設備節拍，設備產能利用率提高5%；

●過程穩定性增強：數字化監控消除了人為因素干擾，使清潔工藝過程處于高度穩定、可控狀態。

管理與社會效益凸顯

●智能制造升級加速：實現關鍵制程環節的數字化與自動化控制，推動工廠整體智能制造水平提升；

●職業健康保障強化：減少人員目視作業頻次，降低職業傷害風險，改善工作環境；

●綠色制造落地見效：藥液用量減少有助于降低毒害氣體排放，符合低碳環保的綠色制造發展方向。

該企業生產負責人表示：“格創東智CVD成膜設備腔體清潔監控檢測系統，讓CVD清潔首次有了量化指標，既砍掉了上億元成本，又把工程師從枯燥的肉眼點檢中解放出來，是公司智能制造道路上的又一大助力。”